Main Multipoint BF thermokoppel

De oxidatiediffusie -oven is een belangrijke procesapparatuur voor de productie van PV -cellen. Het combineert en verspreidt sporenhoeveelheden boor-, fosfor- en andere elementen op de siliciumwafer bij hoge temperaturen om PN -knooppunten te bereiden en componeert geïntegreerde circuits ervan.

Productenbeschrijving

Het is gebruikelijk om thermokoppels te gebruiken die zowel de binnen- als de buitenste delen van de oven meten om de binnentemperatuur van de diffusie -oven te regelen die het oxidatieproces zou kunnen uitvoeren. Elke gespecificeerde temperatuurzone heeft een buiten- en binnenste thermokoppel om ervoor te zorgen dat de resultaten van de maat betrouwbaar zijn. De binnenste thermokoppels worden gebruikt om de wafertemperatuur te meten, het heeft gewoonlijk 3 ~ 9 meetpunten, die de wafertemperatuur nauwkeurig vertegenwoordigen. De buitenste thermokoppels worden gebruikt om het buitenoppervlak van de ovenbuis te voelen, elk heeft meestal slechts één paar draden, om een indirecte meting van de oven te geven. Gewoonlijk is de temperatuur van het oxidatieproces lager dan het diffusieproces, dus het hoofd multipoint BF -thermokoppel van het K en N -type kan worden geïmplementeerd.

Technische parameters	Main Multipoint BF thermokoppel
Technische parameters	Binnen
Type	K,N
Draad- of MIMS -diameter	φ2~4
Werkende temp (graad)	0~950
Nauwkeurigheid (graad)	± 1,5 of 0. 4%· t
Beschermende buislengte (mm)	Minder dan of gelijk aan 4000
Beschermende buisdiameter (mm)	φ14~22
Beschermend buismateriaal	310s of 321
Hot End -structuur	Geïsoleerd
Aantal punten	3 ~ 9 punten
Beëindiging	Kleine connector
Compensatiedraad	Kx (nx) {{{0}} × 0.5fpf
Structuurkenmerken	Gemakkelijk te demonteren, kan t/c voor elk punt worden verwijderd indien nodig